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1100℃三溫區帶滑軌8.5″管式爐GSL-1100X-8.5-SR-III是三溫區滑軌真空管式爐，可通入混合氣體進行低壓力化學氣相沉積處理。本機可在不同氣氛下，在Z大6″的基片上生長多種薄膜。
1100℃三溫區11″管式爐GSL-1100X-11-III是三溫區大尺寸系列管式爐，爐管直徑達到11″。本機廣泛用于真空或氣氛保護環境下對材料進行燒結。
大口徑管式真空氣氛爐GSL-1100X采用高純石英管，外徑規格有6″、8″、8.5″、11″可選，并配有不銹鋼法蘭，可進行抽真空或通入其他氣氛氣體操作，主要用于大尺寸樣品燒結的需求。
1200℃七溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-VII（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
1200℃五溫區獨立控制管式爐OTF-1200X-V（定制）采用獨立的溫控裝置，可離開爐體進行溫控操作，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
1200℃五溫區開啟式管式爐OTF-1200X-V每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗或小批量生產，主要針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（CVD）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
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